実績

• レクリエーション施設飲料水設備

  

  納入場所：福岡県
  濃度：180㎥/日
  処理前ヒ素濃度：0.027mg/L
  処理後ヒ素濃度：0.001mg/L未満

• 温泉保養所排水設備

  

  納入場所：長野県
  濃度：10㎥/日
  処理前ヒ素濃度：0.72mg/L
  処理後ヒ素濃度：0.005mg/L未満

• 温泉排水設備

  

  納入場所：北海道
  濃度：75㎥/日
  処理前ヒ素濃度：0.14mg/L
  処理後ヒ素濃度：0.005mg/L未満

• 半導体工場排水設備

  

  納入場所：広島県
  濃度：320㎥/日
  処理前ヒ素濃度：0.05mg/L
  処理後ヒ素濃度：0.005mg/L未満

• 小学校施設飲料水設備

  

  納入場所：熊本県
  濃度：40㎥/日
  処理前ヒ素濃度：0.012mg/L
  処理後ヒ素濃度：0.002mg/L未満

• 商業施設飲料水設備

  

  納入場所：愛知県
  濃度：100㎥/日（200㎥/日）
  処理前ヒ素濃度：0.014mg/L
  処理後ヒ素濃度：0.01mg/L以下

• 浄水場

  

  納入場所：広島県
  濃度：40㎥/日
  処理前ヒ素濃度：0.02mg/L
  処理後ヒ素濃度：0.001mg/L未満

• 福祉施設飲料水設備

  

  納入場所：佐賀県
  濃度：62㎥/日
  処理前ヒ素濃度：0.02mg/L
  処理後ヒ素濃度：0.001mg/L未満

• 機械装置気化ヒ素除去装置

  

  納入場所：東京都
  濃度：30㎥/時
  処理前ヒ素濃度：0.0017mg/Lガス濃度

• 商業施設飲料水設備

  

  納入場所：鹿児島県
  濃度：300㎥/日
  処理前ヒ素濃度：0.014mg/L
  処理後ヒ素濃度：0.01mg/L以下

• 浄水場

  

  納入場所：宮城県
  濃度：100㎥/日
  処理前ヒ素濃度：2.0mg/L
  処理後ヒ素濃度：0.005mg/L未満